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日立高新离子研磨装置IM4000
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二手日立高新离子研磨装置IM4000
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日立高新磁控溅射器MC1000
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日立离子研磨系统ArBlade5000
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CleanMill氩离子研磨系统
CleanMill氩离子研磨系统为电池样品SEM表征提供高质量的制样方案,传统的机械研磨方式制备样品断面,断面不可避免的存在机械损伤和磨料嵌入样品引起的污染。
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IC离子色谱分析专用超纯离子净化装置(热销)
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德国徕卡离子研磨仪 EM TIC 3X
室温或冷冻条件下,对任何材料实现高品质的表面处理,尽可能显示样品近自然状态下的内部结构。带来前所未有的便利!对于离子研磨仪的效率来说,真正重要的是同时具备出色的品质结果和高产量。与前代版本相比,全新
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德国徕卡 离子研磨仪 EM TIC 3X
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日立高新磁控溅射器MC1000
该溅射器采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。 最大样品直径:60 mm 最大样品高度:20 mm
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日立 IM4000PLUS离子研磨仪器
IM4000PLUS是支持断面研磨和平面研磨(Flat Milling®)的混合式离子研磨仪器。借此,可以用于适用于各种诸如对样品内部结构观察和各类分析等,为评价目的样品的制作。
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